[发明专利]具渐进式折射率的防反射层及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201110265155.4 申请日: 2011-09-08
公开(公告)号: CN103000781A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 王金贤 申请(专利权)人: 晶扬科技股份有限公司
主分类号: H01L33/46 分类号: H01L33/46;H01L33/00
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种具渐进式折射率的防反射层及其制作方法,以消除光在介面的反射作用。本发明的具渐进式折射率的防反射层的特征在于反射层是由一第一材料与一第二材料所沉积而成,且防反射层的折射率(neff)是随厚度于第一材料的折射率(n1)与第二材料的折射率(n2)间呈现渐进式变化。其中防反射层的每一厚度的折射率符合一有效介质定律,neff={n12f+n22(1-f)}1/2,其中f为该反射层的第一材料的填充比率。
搜索关键词: 渐进 折射率 反射层 及其 制作方法
【主权项】:
一种具渐进式折射率的防反射层,其特征在于:该反射层是由一第一材料与一第二材料所沉积而成,且该反射层的折射率是随厚度于一第一材料的折射率与一第二材料的折射率间呈现渐进式变化。
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