[发明专利]具渐进式折射率的防反射层及其制作方法

权利要求书

1.一种具渐进式折射率的防反射层，其特征在于：

该反射层是由一第一材料与一第二材料所沉积而成，且该反射层的折射率是随厚度于一第一材料的折射率与一第二材料的折射率间呈现渐进式变化。

2.根据权利要求1所述的具渐进式折射率的防反射层，其特征在于，该反射层的每一厚度的折射率符合一有效介质定律，n_eff＝{n₁²f+n₂²(1-f)}^1/2，其中该f为该反射层的该第一材料的填充比率。

3.根据权利要求1所述的具渐进式折射率的防反射层，其特征在于，其是沉积于一LED元件上或一太阳能面板上。

4.根据权利要求3所述的具渐进式折射率的防反射层，其特征在于，该LED元件包含有：

一复合式金属导线架，其包含有：

一晶粒座金属导线架，其上贴设有至少一LED晶粒；

一阳极金属导线架与一阴极金属导线架，其是分设于该晶粒座金属导线架侧边；

一成形胶体，其包含有：

一反射墙，其是环设于该LED晶粒周围：

一第一侧壁，其是位于该晶粒座金属导线架与该阳极金属导线架间，以接合该晶粒座金属导线架与该阳极金属导线架；以及

一第二侧壁，其是位于该晶粒座金属导线架与该阴极金属导线架间，以接合该晶粒座金属导线架与该阴极金属导线架；

数个导线，其是将该LED晶粒电性连接至该阳极金属导线架与该阴极金属导线架；以及

一硅胶透镜，其罩设该LED晶粒与该导线，其中该反射层，其是位于该LED晶粒与该硅胶透镜间。

5.根据权利要求4或1所述的具渐进式折射率的防反射层，其特征在于，该LED晶粒上更设有一ITO透明导电层，该第一材料为氧化锌，该第二材料为二氧化硅。

6.根据权利要求4或1所述的具渐进式折射率的防反射层，其特征在于，该第一材料为二氧化钛，该第二材料为二氧化硅。

7.一种具渐进式折射率的防反射层的制造方法，其特征在于，其包含有下列步骤：

提供一真空腔室，该腔室内设有一第一靶材与一第二靶材以及一基材，该第一靶材连接一第一阴极与一可编程第一电源端，该第二靶材连接一第二阴极与一可编程第二电源，该基材连接一阳极；

于该真空腔室内通一氩气与一氧气，以产生一电浆束撞击该第一靶材与该第二靶材；以及

同步调整该可编程第一电源与该可编程第二电源，以调控该第一靶材与该第二靶材的电功率，调变该电浆束轰击该第一靶材与该第二靶材的比例，于该基材上沉积一防反射层，该防反射层的折射率随厚度于该第一靶材的氧化物的折射率与该第二靶材的氧化物的折射率间呈现渐进式变化。

8.根据权利要求7所述的具渐进式折射率的防反射层的制造方法，其特征在于，该第一靶材与该第二靶材的电功率是呈现互补式变动。

9.根据权利要求7所述的具渐进式折射率的防反射层的制造方法，其特征在于，该第一靶材的电功率是延{1-(10t³-15t⁴+6t⁵)}的高点至低点，该第二靶材的电功率是延(10t³-15t⁴+6t⁵)的低点至高点，t是时间百分比。

10.根据权利要求7所述的具渐进式折射率的防反射层的制造方法，其特征在于，该基材为一LED元件半成品。