[发明专利]一种多端口寄存器堆存储单元及其布局布线方法无效

专利信息
申请号: 201110261855.6 申请日: 2011-09-06
公开(公告)号: CN102385908A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 虞志益;张星星;李毅;熊保玉;韩军;张跃军;张章;韩军;程旭;曾晓洋 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G11C7/18 分类号: G11C7/18;G11C7/00
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于集成电路存储单元设计技术领域,具体为一种多端口寄存器堆存储单元及其布局布线方法。耦合的反相器采用六管结构,读位线和耦合的反相器之间采用NMOS管隔离,以防止读破坏。内部连线和VSS全部采用金属层1(M1),有效的减小了布线层数。通过写字线使用金属层2(M2),读字线使用金属层4(M4)布线,可以有效减少字线之间的耦合电容,并且减弱了由于字线数目增多造成的单元面积增大。VDD采用M2进行水平方向布线,位线使用金属层3(M3)进行垂直方向布线。
搜索关键词: 一种 多端 寄存器 存储 单元 及其 布局 布线 方法
【主权项】:
一种多端口寄存器堆存储单元,其特征在于:由16个NMOS管和2个PMOS管组成,其中4个NMOS管和2个PMOS管构成耦合的反相器,形成真存储节点和伪存储节点;其写端口共有2个,每个写端口均由2个NMOS写存取管构成,这2个NMOS管的源端连接两条写位线,漏端分别连接真存储和伪存储节点,栅端连接同一条写字线;其读端口共有四个,每个端口均由一个NMOS读存取管和一个NMOS读隔离管构成,读存取管的源端连接读位线,漏端和读隔离管的漏端相连,栅端和读字线相连,读隔离管的源端和地线VSS相连,其栅端和真存储节点或伪存储节点相连。
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