[发明专利]一种宽光谱金属介质膜光栅及其优化方法无效
| 申请号： | 201110259825.1 | 申请日： | 2011-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN102314040A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 孔伟金;王淑华;云茂金;王书浩;卢朝靖;陈沙鸥 | 申请（专利权）人： | 青岛大学 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;G02B5/18;B32B9/04;B32B15/00 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 266071 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 一种宽光谱金属介质膜光栅及其优化方法，该光栅包括基底、金属Ag膜、多层介质膜、剩余膜层以及表面光栅结构，每层介质反射膜由SiO2、HfO2和TiO2介质膜组成。该方法首先定义光栅衍射效率光谱特性数值评价函数，选定金属介质和多层介质膜材料的折射率以及参与优化的光栅参数，按照严格耦合波理论建立宽光谱金属介质膜光栅TE波衍射效率数值分析模型。通过多参数优化，得到光栅的周期为1480线/mm，槽深为290纳米，剩余膜层的厚度为10nm，占空比为0.28，入射角度为60°。本发明宽带金属介质膜光栅在波长为1053纳米的TE偏振光入射时，在反射衍射-1级方向超过190nm宽光谱带宽内衍射效率高于97％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光谱 金属 介质 光栅 及其 优化 方法 | ||
【主权项】：
一种宽光谱金属介质膜光栅，其特征在于：该光栅从下至上依次由基底(7)、金属Ag膜(6)、SiO2介质膜(5)、HfO2介质膜(4)、TiO2介质膜(3)、剩余膜层(2)以及表面光栅结构(1)；SiO2介质膜、HfO2介质膜和TiO2介质膜依次组成多层介质膜；金属Ag膜和多层介质膜组成高反射膜(8)；光栅的周期为1480线/mm，光栅槽深为290纳米，剩余膜层的厚度为10nm，占空比为0.28，入射角度为60°。
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