[发明专利]一种三维TiO2晶体膜的制备方法

摘要

本发明提供了一种三维TiO2晶体膜的制备方法，包括采用常压低温射频介质阻挡辉光放电方法，将放电气体通入介质阻挡放电等离子体反应器中，通射频交流电使所述放电气体放电产生等离子体射流，将前驱体和载气送入等离子体区进行反应并沉积在基底上，得到三维TiO2晶体膜，其特征在于，所述的沉积为内辉光沉积。本发明所得的TiO2具有大比例的{001}活性面以及{101}面，{001}面和{101}面交叉生长构成独特的三维结构，所得的二氧化钛薄膜在室温下用325nm波长的激光激发出现强烈的可见荧光。

主权项

一种三维TiO2晶体膜的制备方法，包括采用常压低温射频介质阻挡辉光放电方法，将放电气体通入介质阻挡放电等离子体反应器中，通射频交流电使所述放电气体放电产生等离子体射流，将前驱体和载气送入等离子体区进行反应并沉积在基底上，得到三维TiO2晶体膜，其特征在于，所述的沉积为内辉光沉积，所述的载气为氩气或氦气，载气的流量为1‑100sccm，所述的前驱体的流量为0.01‑1sccm。