[发明专利]金属氧化物半场效晶体管有效
申请号: | 201110241606.0 | 申请日: | 2011-08-22 |
公开(公告)号: | CN102867853A | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
发明(设计)人: | 陈柏安;潘钦寒 | 申请(专利权)人: | 新唐科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/08 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 任默闻 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明实施例公开了一种金属氧化物半场效晶体管,包括源极区、漏极区、栅极以及栅介电层。漏极区位于基底中,呈椭圆形螺旋状,且其起始部分别呈条状或水滴状,或其起始部的曲率为0.02um-1至0.0025um-1。源极区,位于基底中,环绕于漏极区周缘。栅极位于源极区与漏极区之间的基底上。栅介电层位于栅极与基底之间。 | ||
搜索关键词: | 金属 氧化物 半场 晶体管 | ||
【主权项】:
一种金属氧化物半场效晶体管,其特征在于,包括:一漏极区,位于一基底中,所述漏极区具有第一导电型,呈椭圆形螺旋状,其起始部呈条状或水滴状,或其起始部的曲率为0.02um‑1至0.0025um‑1;一源极区,具有第一导电型,位于所述基底中,环绕于所述漏极区周缘;一栅极,位于所述源极区与所述漏极区之间的所述基底上;以及一栅介电层位于所述栅极与所述基底之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新唐科技股份有限公司,未经新唐科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110241606.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:煤矿风门闭锁装置
- 下一篇:一种LSA的传输方法和设备
- 同类专利
- 专利分类