[发明专利]用于制造电路的方法和电路有效

专利信息
申请号: 201110226944.7 申请日: 2011-08-09
公开(公告)号: CN102376539B 公开(公告)日: 2019-05-14
发明(设计)人: J.布茨;A.弗兰克;F.哈格;H.韦伯;A.赫希斯特;S.克尼斯 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;H01L21/60;H01L23/64;H01L23/488
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 胡莉莉;李家麟
地址: 德国斯*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及用于制造电路的方法和电路。建议了一种用于制造具有至少一个半导体芯片(130)的电路的方法,该方法包括在所述至少一个半导体芯片(130)的接触侧上形成布线层(360)的步骤,所述至少一个半导体芯片(130)除了接触侧之外被注入有浇注材料(140)。在此,布线层(360)为了构造电线圈而具有至少一个导体环(370)。
搜索关键词: 用于 制造 电路 方法
【主权项】:
1.一种用于制造具有至少一个半导体芯片(130)的电路的方法,其具有如下步骤:在所述至少一个半导体芯片(130)的接触侧上形成(620)中间平面和布线层(360),所述至少一个半导体芯片(130)除了接触侧之外被注入有浇注材料(140),其中中间平面直接与所述至少一个半导体芯片(130)的接触侧邻接地来形成,布线层(360)为了构造电线圈而具有至少一个导体环(370)并且被形成在中间平面上;将所述至少一个半导体芯片(130)以接触侧安置(605)在支承衬底(110)上;给在支承衬底上的所述至少一个半导体芯片注入(610)有浇注材料(140);以及将支承衬底(110)与所述至少一个半导体芯片剥离(615);其中使所述至少一个半导体芯片的接触侧显露,以便提供除了接触侧之外被注入有浇注材料的半导体芯片。
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