[发明专利]镀膜装置及其镀膜方法无效
| 申请号： | 201110222425.3 | 申请日： | 2011-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN102912303A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 陈文荣;陈正士;李聪 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种镀膜装置，用于对带有中空腔体的待镀膜工件镀膜，该镀膜装置包括一仿形本体及若干磁体，该仿形本体的形状与该待镀膜工件外形大致相当，若干磁体间隔且等间距的设置于仿形本体的外周壁上，且每一磁体的S极和N与邻近磁体的S极和N极交错设置。本发明还提供了一种使用该镀膜装置的镀膜方法。本发明克服传统镀膜由于阴影效应而导致的内孔无法镀膜的问题，且加工成本低，适合大规模量产使用。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种镀膜装置，用于对带有中空腔体的待镀膜工件进行镀膜，其特征在于：该镀膜装置包括一仿形本体及若干磁体，该仿形本体的形状与该待镀膜工件外形大致相当，所述若干磁体间隔且等间距的设置于仿形本体的外周壁上，且每一磁体的S极和N与邻近磁体的S极和N极交错设置。
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