[发明专利]真空镀膜装置的改良结构有效
| 申请号： | 201110210048.1 | 申请日： | 2011-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN102899619A | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 黄水祥 | 申请（专利权）人： | 御林汽配（昆山）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 昆山四方专利事务所 32212 | 代理人： | 盛建德 |
| 地址： | 215325 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种真空镀膜装置的改良结构，包括真空沉积腔室以及位于真空沉积腔室内的托架和靶材，该托架呈穹顶状结构，该托架内侧向下设有多个用于固定工件的挂钩，该托架顶部中心通过该转轴转动固定于该真空沉积腔室顶部，该转轴可由控制马达驱动转动，该托架与该真空沉积腔室顶部之间至少设有一个能对该托架上的工件加热的电阻加热体，该靶材位于该托架下方，通过加热机构控制该靶材加热挥发，实现对该托架上工件镀膜，该加热机构为安装于该真空沉积腔室内并可放置该靶材的槽状电热体，该槽状电热体两侧设有一对电极，该对电极另一端引出于该真空沉积腔室与电源变压器之次级绕组引出端连接，本发明使得放置工件的托架驱动机构简便实用。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 装置 改良 结构 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜装置的改良结构，包括真空沉积腔室(1)以及位于该真空沉积腔室内的托架(2)和靶材(3)，其特征在于：该托架(2)通过第一转轴(4)和轴承转动固定于该真空沉积腔室顶部，而该第一转轴(4)由驱动马达控制连带该托架(2)转动，该靶材(3)位于该托架下方，通过加热机构控制该靶材加热蒸发。
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