[发明专利]真空镀膜装置的改良结构有效

专利信息
申请号: 201110210048.1 申请日: 2011-07-26
公开(公告)号: CN102899619A 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 黄水祥 申请(专利权)人: 御林汽配(昆山)有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 昆山四方专利事务所 32212 代理人: 盛建德
地址: 215325 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 真空镀膜 装置 改良 结构
【说明书】:

技术领域

发明属于镀膜设备,特别涉及一种在真空沉积腔室内对工件镀膜的加工装置的改良结构。

背景技术

真空镀膜技术在经济社会各个领域有着广泛应用,特别是科技迅速发展、人们生活的不断提高以及高科技镀膜产品的不断涌现,给真空镀膜技术的发展和推广应用带来了新的机遇。

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。如蒸发镀膜就是加热靶材,使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程形成薄膜。常见的蒸发镀膜就是放置镀膜工件的托架置于真空沉积腔室内,该托架通过环状滚珠轴转动固定于环状支撑架,而该环状支撑架环周设有环状齿条,并与之啮合的驱动齿轮及驱动马达控制转动,实现该托架连带工件转动,而该托架下方放置靶材,该靶材通过加热机构加热挥发,从而实现工件在真空腔室内高温镀膜操作。然而,驱动放置工件的托架转动机构十分繁琐,不利于放置各种尺寸的工件。

发明内容

为了克服上述缺陷,本发明提供了一种基于真空溅射沉积技术的真空镀膜装置的改良结构,使得放置工件的托架驱动机构简便实用。

本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是:一种真空镀膜装置的改良结构,包括真空沉积腔室以及位于该真空沉积腔室内的托架和靶材,该托架通过第一转轴和轴承转动固定于该真空沉积腔室顶部,而该第一转轴由驱动马达控制连带该托架转动,该靶材位于该托架下方,通过加热机构控制该靶材加热蒸发。

作为本发明的进一步改进,该托架呈穹顶状结构,该托架内侧向下设有多个用于固定工件的挂钩,该托架顶部中心通过该第一转轴和轴承转动固定于该真空沉积腔室顶部。

作为本发明的进一步改进,该托架与该真空沉积腔室顶部之间至少设有一个能对该托架上的工件加热的预加热机构。

作为本发明的进一步改进,该预加热机构为电热丝加热体或红外加热体。

作为本发明的进一步改进,该加热机构为安装于该真空沉积腔室内并可放置该靶材的槽状金属加热体,该槽状金属加热体两侧设有一对电极,该对电极另一端引出于该真空沉积腔室后,分别与电源变压器之次级绕组引出端连接。

作为本发明的进一步改进,该靶材还通过转动机构控制能相对该托架转动,该转动机构为通过轴承固定于该真空沉积腔室内侧底部的第二转轴,该第二转轴上端与绝缘连接杆一端固定,并且该绝缘连接杆与该第二转轴呈直角连接,该绝缘连接杆另一端固定该槽状电热体,该对电极另一端沿该绝缘连接杆,并通过该第二转轴内的两通孔引出,该第二转轴下端伸出该真空沉积腔室外后固定滚轮,并通过传送带和马达控制转动。

作为本发明的进一步改进,该真空沉积腔室侧部设有可装卸镀膜工件的操作门。

本发明的有益技术效果是:所述托架顶部中心通过第一转轴转动固定于呈穹顶结构,该第一转轴又可由控制马达驱动转动,这样将该托架驱动转动机构设计在该真空沉积腔室内侧顶部后,将镀膜工件放置于该托架的操作更加方便。

所述靶材还通过转动机构控制相对该托架转动,该转动机构为通过轴承固定于该真空沉积腔室内侧底部的第二转轴,该第二转轴上端与绝缘连接杆一端固定,并且该绝缘连接杆与该第二转轴呈直角连接,该绝缘连接杆另一端固定该槽状电热体,该对电极另一端沿该绝缘连接杆,并通过该第二转轴内的两通孔引出,该第二转轴下端伸出该真空沉积腔室外后固定滚轮,并通过传送带和马达控制转动。这样托架和靶材都可以分别控制转动,当靶材通过加热机构加热挥发后,沉积于该托架上工件镀膜层厚度一致性更加合理。

附图说明

图1为本发明的半剖视结构示意图。

对照以上附图,作如下补充:

1——真空沉积腔室    60——第二转轴

2——托架            61——轴承

3——靶材            63——滚轮

4——第一转轴        64——传送带

5——电热丝加热体    66——马达

50——槽状金属加热体    73——电源变压器

51——通孔              100——工件

52——绝缘连接杆

具体实施方式

结合图1,作以下进一步描述:

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