[发明专利]深冷温度下的束诱导沉积有效

专利信息
申请号: 201110180929.3 申请日: 2011-06-30
公开(公告)号: CN102312224A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: J.J.L.穆尔德斯;P.H.F.特罗姆佩纳尔斯 申请(专利权)人: FEI公司
主分类号: C23C16/48 分类号: C23C16/48
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 孟慧岚;艾尼瓦尔
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及深冷温度下的束诱导沉积,即在深冷温度下采用束诱导沉积将材料沉积到底材上的方法。前体气体选自熔点低于底材深冷温度的一类化合物。优选前体气体选自在所要求的深冷温度下粘着系数在0.5~0.8之间的一类化合物。这将导致前体气体在所要求的深冷温度下,在被吸附到底材表面的前体分子与解吸自底材表面的前体气体分子之间达到平衡。适用的前体气体可包括烷烃、烯烃或炔烃。在-50℃~-85℃的深冷温度下,可以使用己烷作为前体气体来沉积材料;在-50℃~-180℃的深冷温度下,可以使用丙烷作为前体气体。
搜索关键词: 温度 诱导 沉积
【主权项】:
在深冷温度下使材料沉积到底材上的方法,该方法包括:导引前体气体指向底材表面;在前体气体存在下,采用粒子束辐照底材表面,前体气体在粒子束存在下发生反应,从而使材料沉积在底材表面上;其特征在于使底材冷却到所要求的低于‑50℃,更优选低于‑130℃的深冷温度;前体气体选自熔点低于所要求的深冷温度的一类化合物。
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