[发明专利]反应腔装置及具有其的基片处理设备

摘要

本发明提出一种反应腔装置，包括：腔室本体，腔室本体内限定有反应腔室；多个托盘，多个托盘设置在反应腔室之中且可绕中心轴转动；和整流片，所述多个托盘之间间隔设置所述整流片，且整流片位置固定不动。本发明还提出一种基片处理设备。通过本发明实施例提出的反应腔装置，可有效地增强托盘的温度补偿效果，提高托盘的温度均匀性。通过本发明实施例提出的基片处理设备，可使基片表面温度更加均匀，进而提高基片的成膜工艺指标。

主权项

一种反应腔装置，其特征在于，包括：腔室本体，所述腔室本体内限定有反应腔室；多个托盘，所述多个托盘设置在所述反应腔室之中且可绕中心轴转动；和整流片，所述多个托盘之间间隔设置所述整流片，且所述整流片位置固定不动。