[发明专利]氮化物基发光器件及其制造方法无效
申请号: | 201110140333.0 | 申请日: | 2011-05-27 |
公开(公告)号: | CN102651440A | 公开(公告)日: | 2012-08-29 |
发明(设计)人: | 陈周;朴健 | 申请(专利权)人: | 半材料株式会社;朴健 |
主分类号: | H01L33/22 | 分类号: | H01L33/22;H01L33/32;H01L33/00 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 林锦辉;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了一种具有反向p-n结构的氮化物基发光器件及其制造方法,其中在生长基底上首先形成p型氮化物层。该发光器件包括:生长基底;形成于生长基底上的用于氮化物生长的粉末型籽晶层;形成在用于氮化物生长的籽晶层上的p型氮化物层;形成在p型氮化物层上的发光活性层;以及形成在发光活性层上的n型ZnO层。首先在生长层上形成p型氮化物层,然后在其上形成具有相对较低生长温度的n型ZnO层来取代n型氮化物层,由此提供优异的结晶性和高亮度。 | ||
搜索关键词: | 氮化物 发光 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种包括在p型氮化物层与n型ZnO层之间的发光活性层的氮化物基发光器件,其特征在于包括:生长基底;粉末型籽晶层,所述粉末型籽晶层形成于所述生长基底上用于氮化物生长;p型氮化物层,所述p型氮化物层形成于用于氮化物生长的籽晶层上;发光活性层,所述发光活性层形成于该p型氮化物层上;以及n型ZnO层,所述n型ZnO层形成于该发光活性层上。
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