[发明专利]化妆品级2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸清洁合成工艺无效
| 申请号： | 201110139202.0 | 申请日： | 2011-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN102796029A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 姜恒;王锐;宫红;苏婷婷 | 申请（专利权）人： | 辽宁石油化工大学 |
| 主分类号： | C07C309/44 | 分类号： | C07C309/44;C07C303/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 113001 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化妆品级2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸合成工艺及其清洁生产方法，其处理流程为：向搪瓷反应釜中投加2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮和溶剂在氮气保护并搅拌下滴加氯磺酸，通过夹套水浴冷却以及控制滴加氯磺酸的速度控制釜内物料温度为20～25℃，反应20～25h，反应结束后，产品经离心过滤分离，用相应的溶剂洗涤产品，产品在氮气保护下干燥。HCl回收填料塔中用水循环方式回收氯化氢副产物制成20％～30％盐酸水溶液，尾气用固体碱填料塔中和少量氯化氢气体。溶剂蒸馏回收系统采用常压蒸馏塔蒸馏回收溶剂，釜底残液回收2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮和2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸。 | ||
| 搜索关键词： | 化妆 品级 羟基 甲氧基二苯甲酮 清洁 合成 工艺 | ||
【主权项】：
一种化妆品级水溶性紫外线吸收剂2‑羟基‑4‑甲氧基二苯甲酮‑5‑磺酸合成工艺及其清洁生产方法，其特征在于：预先在搪瓷反应釜中投加溶剂和2‑羟基‑4‑甲氧基二苯甲酮，在氮气保护并搅拌下滴加氯磺酸，通过夹套水浴冷却以及控制滴加氯磺酸的速度控制釜内物料温度为20～25℃，氯磺酸添加结束后继续在20～25℃下反应20～25h，反应结束后，产品经离心过滤分离，用相应的溶剂洗涤产品，产品在氮气保护下干燥，在整个合成工艺中，所用溶剂及副产物均加以回收利用。
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