[发明专利]化妆品级2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸清洁合成工艺无效
申请号: | 201110139202.0 | 申请日: | 2011-05-23 |
公开(公告)号: | CN102796029A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 姜恒;王锐;宫红;苏婷婷 | 申请(专利权)人: | 辽宁石油化工大学 |
主分类号: | C07C309/44 | 分类号: | C07C309/44;C07C303/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 113001 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化妆 品级 羟基 甲氧基二苯甲酮 清洁 合成 工艺 | ||
技术领域
本发明属于精细化工领域,尤其涉及到水溶性紫外线吸收剂2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸清洁合成工艺,以达到生产化妆品级2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸产品的目的。
背景技术
紫外线吸收剂2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸(INCI名称Benzophenone-4,以下简称BP-4)能够同时吸收UV-A和UV-B,是一种广谱、水溶性紫外线吸收剂,对光、热稳定性好等优点,用于水溶性化妆品中作防晒剂。是欧洲、日本法规允许使用的化妆品添加剂,也是美国FDA批准的第一类防晒剂,同时也是我国化妆品卫生规范(2002版)允许使用的紫外线吸收剂。其急性毒性:老鼠口服半数致死量LD50=3530mg/kg,属于低毒化学品。
BP-4为2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮(以下简称BP-3)的下游产品。与传统的二苯甲酮类紫外线相比,具有水溶性、无对皮肤刺激性、毒性低等优点,可以直接添加到水溶性化妆品或涂料中,具有广泛的应用前景。BP-4作为化妆品原料,世界各国的准许状态(最大使用量wt%)如下:欧洲:5.0%;澳大利亚:10%;日本:10.0%;美国:10.0%;中国:5%。
传统的BP-4的合成方法是以BP-3为原料经过磺化反应的目标产物。首先往磺化釜中加入93%的硫酸,在搅拌下慢慢加入BP-3,在110℃左右反应4~6h,冷却,结晶,甩干,重结晶即为成品。该方法的缺点是产生大量的废酸,产品中游离H2SO4含量高,产品外观、熔点及含水量不合格。
US6936732采用碳酸二甲酯、环己烷、正己烷作为溶剂,用氯磺酸与BP-3反应,反应温度为60~70℃,滴加氯磺酸时间为4h,反应时间为1h。由于氯磺酸的强氧化性,反应进行快,且反应过程中放热,温度较高时容易破坏目标产物的结构,使产品收率降低。
US5072034采用乙酸乙酯、苯甲酸乙酯作为溶剂溶解BP-3,在采取冷却措施的条件下(0~5℃)0.5h内滴加氯磺酸,然后在室温(18~25℃)反应24h,反应结束后过滤,滤液在下一合成中使用,这种合成方法尽管解决了溶剂回收的问题,但会造成杂质在产品中不断累积,从而影响BP-4的作为化妆品原料的质量。
GB1136525采用1,2-二氯乙烷、四氯化碳或二溴甲烷为溶剂,在85~86℃滴加氯磺酸与BP-3反应,滴加时间为2h,冷却后过滤出BP-4产品,产品用相应的溶剂洗涤。通常卤代烃统称为破坏臭氧层物质导致环境危害,同时卤代烃经皮肤吸收后,侵犯神经中枢或作用于内脏器官,引起中毒。
CN101624357A(申请号200910063440.0)公开了一种2-羟基-4-甲氧基-5-磺酸二苯甲酮的生产方法,其主要特征是:将BP-3、氯磺酸、碳酸二甲酯和水投入反应釜中,温度控制在23~28℃,保温反应18~20h得到BP-4粗品,再将粗品用混合溶剂重结晶。该方法存在的问题是氯磺酸有很强的吸湿性,遇水剧烈反应生成HCl和H2SO4,H2SO4残留在BP-4产品中会影响产品质量,重结晶会造成产品损失以及产品中含水量高等问题。此外,由于反应是放热过程,一次性投加氯磺酸会使反应体系的温度迅速升高,从而引发副反应。
发明内容
本发明的目的是提供一种2-羟基-4-烷氧基二苯甲酮的合成工艺技术及其清洁生产方法,遵循减量化,再利用和资源化三原则,最终实现低污染和零排放。
本发明的目的是这样实现的:预先在搪瓷反应釜中投加溶剂和2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮,在氮气保护并搅拌下滴加氯磺酸,通过夹套水浴冷却以及控制滴加氯磺酸的速度控制釜内物料温度为20~25℃,氯磺酸添加结束后继续在20~25℃下反应20~25h,反应结束后,产品经离心过滤分离,用相应的溶剂洗涤产品,产品在氮气保护下干燥,在整个合成工艺中,所用溶剂及副产物均加以回收利用。
本发明所依据的反应原理是:氯磺酸是亲电试剂,与2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮(BP-3)发生亲电取代反应,苯环上的-OH和-OCH3是邻对位定位基(第一类定位基),并且可以使苯环活化,-CO-是间位定位基(第二类定位基),由以上定位原则知磺酸基应取代苯环上的5-位置,如下所示:
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