[发明专利]有机薄膜晶体管及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110126581.X 申请日: 2011-05-16
公开(公告)号: CN102655214A 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: 张学辉 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/10;H01L51/40
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种有机薄膜晶体管及其制造方法,涉及有机半导体器件领域。本发明制造方法包括:在衬底上形成有机半导体层;在有机半导体层上形成由光敏材料制成的栅绝缘层;对所述栅绝缘层进行曝光;对曝光后的所述栅绝缘层进行显影,获得图案化的栅绝缘层;在形成有所述图案化的栅绝缘层的所述有机半导体层上形成金属膜,即形成覆盖所述栅绝缘层顶部表面的栅电极、隔着所述栅绝缘层彼此相对并分别紧靠所述栅绝缘层侧壁的源电极和漏电极。本发明简化了有机薄膜晶体管制造工艺,降低了有机薄膜晶体管的制造成本。
搜索关键词: 有机 薄膜晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
一种有机薄膜晶体管,包括:有机半导体层、栅绝缘层、栅电极、源电极及漏电极,其特征在于,所述栅绝缘层形成在有机半导体层上;所述栅电极覆盖所述栅绝缘层的顶部表面;所述源电极及漏电极形成在所述有机半导体层上,隔着所述栅绝缘层彼此相对,并分别紧靠所述栅绝缘层的侧壁;所述侧壁与紧靠其的所述源电极或漏电极底部表面之间的夹角不大于90度;其中,所述栅绝缘层材料为光敏材料。
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