[发明专利]一种P型GaN上双层透明电极无效

专利信息
申请号: 201110047477.1 申请日: 2011-02-28
公开(公告)号: CN102142496A 公开(公告)日: 2011-08-03
发明(设计)人: 张昊翔;叶志镇;吕建国;江忠永 申请(专利权)人: 杭州士兰明芯科技有限公司
主分类号: H01L33/36 分类号: H01L33/36;H01L33/42
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 张法高
地址: 310018 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种GaN基LED中P型GaN上双层透明电极,该透明电极由ITO薄膜和ZnO基薄膜双层结构组成,其工艺步骤为:1)在P型GaN上沉积ITO薄膜为第一透明导电层,厚度为1~1000微米;2)在第一透明导电层上沉积低阻ZnO基薄膜为第二透明导电层,电阻率在10–4~10–5Ωcm。本发明的双层透明电极具有电阻率低、电流均匀扩散、透光率高、稳定性好的优点,双层电极的使用可以提高GaN基LED的发光效率和寿命。
搜索关键词: 一种 gan 双层 透明 电极
【主权项】:
一种P型GaN上双层透明电极,其特征在于包括P型GaN层(1)、ITO薄膜(2)和ZnO基薄膜(3);在P型GaN层(1)上顺次设有ITO薄膜(2)和ZnO基薄膜(3),ITO薄膜(2)为第一透明导电层,ZnO基薄膜(3)为第二透明导电层。
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