[发明专利]薄膜形成装置系统及薄膜形成方法无效
| 申请号： | 201080065486.7 | 申请日： | 2010-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN102803549A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 钱谷嘉高 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B65G49/06;H01L21/02;H01L21/205;H01L21/677;H01L31/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 岳雪兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 薄膜形成装置系统包括：加热室（3），其是处理室之一，配置有用于加热基板（16）的加热装置（20）和使基板（16）与加热装置（20）相对移动的基板传送装置（12A）；ZnO溅射室（4），其是处理室之一，配置有用于在加热了的基板（16）上形成薄膜的溅射装置（26）；控制装置（22），其用于操作基板传送装置（12A）。基板传送装置（12A）被控制装置（22）控制为在不能从加热室（3）传送基板（16）时，使加热室（3）内的基板（16）与加热装置（20）继续相对移动。通过该构成，能够防止基板的变形和热裂。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 形成 装置 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种薄膜形成装置系统，包括多个处理室，基板（16）依次经过所述处理室而被处理，由此在基板（16）上形成薄膜，该薄膜形成装置系统（1）的特征在于，包括：加热室（3），其是所述处理室之一，配置有用于加热基板（16）的加热装置（20）以及使基板（16）与所述加热装置（20）相对移动的驱动装置；膜形成室（4，6），其是所述处理室之一，配置有在加热了的基板（16）上形成薄膜的膜形成装置（26）；控制装置（22），其用于操作所述驱动装置；所述驱动装置被所述控制装置（22）操作为在不能从所述加热室（3）传送基板（16）时，使所述加热室（3）内的基板（16）与所述加热装置（20）继续相对移动。
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