[发明专利]抗反射硬掩模组合物以及使用其制备图案化材料的方法有效
| 申请号： | 201080064595.7 | 申请日： | 2010-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN102770807A | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | S·D·伯恩斯;D·R·梅代罗斯;D·法伊弗 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 夏正东 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 该抗反射硬掩模组合物层包含聚合物，该聚合物在主链之中具有Si-O以及非硅无机组成部分。该聚合物包含至少发色团组成部分和透明组成部分以及交联组分。抗反射硬掩模组合物层用于在衬底之上形成图案化材料的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 模组 以及 使用 制备 图案 材料 方法 | ||
【主权项】：
抗反射硬掩模组合物，其包含具有Si‑O聚合物主链以及结合进所述Si‑O聚合物主链的非硅无机组成部分的聚合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司，未经国际商业机器公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080064595.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
