[发明专利]用于在巯基-二硫键氧还酶缺陷的细菌突变体细胞中产生异源多肽的方法无效

专利信息
申请号: 201080064301.0 申请日: 2010-12-17
公开(公告)号: CN102762723A 公开(公告)日: 2012-10-31
发明(设计)人: W.韦德纳;B.克里斯坦森 申请(专利权)人: 诺维信股份有限公司;诺维信公司
主分类号: C12N9/02 分类号: C12N9/02;C12N15/75;C12N15/53;C12P21/02;C07K14/32
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 史悦
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及产生异源多肽的方法,包括(a)在用于产生异源多肽的培养基中培养亲本细菌细胞的突变体,其中(i)所述突变体细胞包含编码包含两个或更多个(几个)半胱氨酸的异源多肽的第一多核苷酸,和包含编码不正确地催化所述异源多肽的两个或更多个(几个)半胱氨酸之间的一个或多个(几个)二硫键形成的巯基-二硫键氧还酶的基因的修饰的第二多核苷酸,和(ii)所述突变体细胞在相同条件下培养时相对于亲本细菌细胞在巯基-二硫键氧还酶产生方面是缺陷的,和(b)从培养基回收所述异源多肽。本发明还涉及此类细菌突变体和产生此类细菌突变体的方法。
搜索关键词: 用于 巯基 二硫键 氧还酶 缺陷 细菌 突变 体细胞 产生 多肽 方法
【主权项】:
一种亲本细菌细胞的分离的突变体,包含编码包含两个或更多个(几个)半胱氨酸的异源多肽的第一多核苷酸,和包含编码不正确地催化所述异源多肽的两个或更多个(几个)半胱氨酸之间的一个或多个(几个)二硫键形成的巯基‑二硫键氧还酶的基因的修饰的第二多核苷酸,其中所述突变体细胞在相同条件下培养时相对于亲本细菌细胞在巯基‑二硫键氧还酶产生方面是缺陷的。
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