[发明专利]用于微环境中均匀分布吹扫气体的多孔隔板有效
申请号: | 201080063663.8 | 申请日: | 2010-12-10 |
公开(公告)号: | CN102812545A | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
发明(设计)人: | 约翰·伯恩斯;马克·史密斯;马修·富勒 | 申请(专利权)人: | 恩特格里公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;H01L21/68;B65D85/86;B65D85/38 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 楼高潮 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种改进了用于把微环境净化到所需水平的相对湿度、氧气或颗粒物的系统和方法,通过采用可以在微环境内均匀分布吹扫气体的吹扫气体输送装置和方法。一种具有沿塔的长度延伸的流体流动通道的净化塔的衬底容器。在孔和流体流动通道之间具有多孔介质的孔可以调节每个孔排出气体的流量和压力。可替代地,塔也可以由多孔管状聚合材料构成。套管可以在内部引导排出的吹扫气体。 | ||
搜索关键词: | 用于 环境 均匀分布 气体 多孔 隔板 | ||
【主权项】:
一种运输衬底的系统,其包括:衬底容器,包括具有供衬底装卸的开口的容器部分,和适合用于密封地覆盖所述开口的门;布置在运输容器内的衬底携带部分;包括进气塔的装置,适于安装在衬底容器部分,用于让气态工作流体进入容器内部,以用气态工作流体净化衬底容器;具有一定长度的进气塔,其具有沿着塔的长度设置的一个或多个排气区域,以及沿塔的长度延伸的内部流动通道;过滤介质,其安置在每个排气区域,介于一个或多个排气区域与内部流动通道之间,进入衬底容器的气态工作流体通过所述介质被过滤和气态流体。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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