[发明专利]双功函数栅极结构有效

专利信息
申请号: 201080053547.8 申请日: 2010-12-02
公开(公告)号: CN102714207A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: W·M·哈菲兹;A·拉赫曼 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;王英
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 描述了一种具有晶体管的半导体芯片。所述晶体管具有设置在栅极电介质上的栅极电极。所述栅极电极包括设置在所述栅极电介质上的第一栅极材料和设置在所述栅极电介质上的第二栅极材料。第一栅极材料不同于第二栅极材料。第二栅极材料也位于所述栅极电极的源极区域或漏极区域处。
搜索关键词: 函数 栅极 结构
【主权项】:
一种半导体芯片,包括:晶体管,所述晶体管具有设置在栅极电介质上的栅极电极,所述栅极电极包括设置在所述栅极电介质上的第一栅极材料和设置在所述栅极电介质上的第二栅极材料,所述第一栅极材料不同于所述第二栅极材料,所述第二栅极材料也位于所述栅极电极的源极区域或漏极区域处。
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