[发明专利]基板处理装置、基板运送装置以及基板处理装置的控制方法无效
| 申请号： | 201080050835.8 | 申请日： | 2010-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN102612739A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | 石沢繁;近藤昌树 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/677 | 分类号： | H01L21/677;B65G49/07 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 柳春雷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种基板处理装置，包括：运送臂，所述运送臂能够载放所述基板、并具有吸附被载放的所述基板的静电吸盘，并且所述运算臂进行所述基板的运送；以及控制部，当在所述基板被载放在所述运送臂上的情况下所述运送臂的动作处于停止时，所述控制部不向所述静电吸盘的电极间施加用于使所述静电吸盘吸附所述基板的电压，当在所述基板被载放在所述运送臂上的情况下所述运送臂进行动作时，所述控制部向所述电极间施加所述电压。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 运送 以及 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种基板处理装置，所述基板处理装置包括：运送臂，所述运送臂能够载放所述基板、并具有吸附被载放的所述基板的静电吸盘，并且所述运算臂进行所述基板的运送；以及控制部，当在所述基板被载放在所述运送臂上的情况下所述运送臂的动作处于停止时，所述控制部不向所述静电吸盘的电极间施加用于使所述静电吸盘吸附所述基板的电压，当在所述基板被载放在所述运送臂上的情况下所述运送臂进行动作时，所述控制部向所述电极间施加所述电压。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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