[发明专利]多层涂层、制作多层涂层的方法及其应用有效

专利信息
申请号: 201080040851.9 申请日: 2010-09-13
公开(公告)号: CN102575345A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: S·斯奈克;N·埃索马克;J·毛拉;O·扎哈;M·普特康恩;R·托恩韦斯特;M·索德兰德 申请(专利权)人: 贝尼科公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/40
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 赵蓉民
地址: 芬兰*** 国省代码: 芬兰;FI
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摘要: 多层涂层和在基材(3)上制作多层涂层的方法。所述涂层被布置以使原子透过所述涂层的扩散最小化,所述方法包括下述步骤:将基材(3)引至反应空间,将第一材料层(1)沉积在基材(3)上,并将第二材料层(2)沉积在第一材料层(1)上。沉积第一材料层(1)和第二材料层(2)包括交替引入前体至所述反应空间中并随后在每次引入前体之后吹扫所述反应空间。所述第一材料选自二氧化钛和氧化铝,所述第二材料是来自二氧化钛和氧化铝的另一个。在二氧化钛和氧化铝之间形成界面区。
搜索关键词: 多层 涂层 制作 方法 及其 应用
【主权项】:
在基材(3)上制作多层涂层的方法,所述涂层被布置以使原子透过所述涂层的扩散最小化,所述方法包括下述步骤:将基材(3)引至反应空间,将第一材料层(1)沉积在所述基材(3)上,并将第二材料层(2)沉积在所述第一材料层(1)上,其特征在于,沉积所述第一材料层(1)包括下述步骤:‑将第一前体引入所述反应空间以便至少一部分所述第一前体吸附到所述基材(3)的表面上,并随后吹扫所述反应空间,和‑将第二前体引入所述反应空间以便至少一部分所述第二前体与吸附到所述基材(3)表面上的所述第一前体反应,并随后吹扫所述反应空间;沉积所述第二材料层(2)包括下述步骤:‑将第三前体引入所述反应空间以便至少一部分所述第三前体吸附到所述第一材料层(1)的表面上,并随后吹扫所述反应空间,和‑将第四前体引入所述反应空间以便至少一部分所述第四前体与吸附到所述第一材料层(1)表面上的所述第三前体反应,并随后吹扫所述反应空间;所述第一材料选自二氧化钛和氧化铝,所述第二材料是来自二氧化钛和氧化铝的另外一个,并且特征在于在二氧化钛和氧化铝之间形成界面区。
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