[发明专利]多层涂层、制作多层涂层的方法及其应用有效
申请号: | 201080040851.9 | 申请日: | 2010-09-13 |
公开(公告)号: | CN102575345A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | S·斯奈克;N·埃索马克;J·毛拉;O·扎哈;M·普特康恩;R·托恩韦斯特;M·索德兰德 | 申请(专利权)人: | 贝尼科公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/40 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵蓉民 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | 多层涂层和在基材(3)上制作多层涂层的方法。所述涂层被布置以使原子透过所述涂层的扩散最小化,所述方法包括下述步骤:将基材(3)引至反应空间,将第一材料层(1)沉积在基材(3)上,并将第二材料层(2)沉积在第一材料层(1)上。沉积第一材料层(1)和第二材料层(2)包括交替引入前体至所述反应空间中并随后在每次引入前体之后吹扫所述反应空间。所述第一材料选自二氧化钛和氧化铝,所述第二材料是来自二氧化钛和氧化铝的另一个。在二氧化钛和氧化铝之间形成界面区。 | ||
搜索关键词: | 多层 涂层 制作 方法 及其 应用 | ||
【主权项】:
在基材(3)上制作多层涂层的方法,所述涂层被布置以使原子透过所述涂层的扩散最小化,所述方法包括下述步骤:将基材(3)引至反应空间,将第一材料层(1)沉积在所述基材(3)上,并将第二材料层(2)沉积在所述第一材料层(1)上,其特征在于,沉积所述第一材料层(1)包括下述步骤:‑将第一前体引入所述反应空间以便至少一部分所述第一前体吸附到所述基材(3)的表面上,并随后吹扫所述反应空间,和‑将第二前体引入所述反应空间以便至少一部分所述第二前体与吸附到所述基材(3)表面上的所述第一前体反应,并随后吹扫所述反应空间;沉积所述第二材料层(2)包括下述步骤:‑将第三前体引入所述反应空间以便至少一部分所述第三前体吸附到所述第一材料层(1)的表面上,并随后吹扫所述反应空间,和‑将第四前体引入所述反应空间以便至少一部分所述第四前体与吸附到所述第一材料层(1)表面上的所述第三前体反应,并随后吹扫所述反应空间;所述第一材料选自二氧化钛和氧化铝,所述第二材料是来自二氧化钛和氧化铝的另外一个,并且特征在于在二氧化钛和氧化铝之间形成界面区。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的