[发明专利]等离子体处理装置和基板处理方法

摘要

等离子体处理装置(11)所具备的微波供给单元(20)具备短截线部件(51)，该短截线部件，作为使内导体(32)的外周面(36)的一部分与在径向与内导体(32)的外周面的一部分相对的相对部在此为冷却板突出部(47)在径向的距离变更的变更单元，能够从外导体(33)侧向内导体(32)侧延伸出。短截线部件(51)包括：在外导体(33)侧被支承，且设置为在径向延伸的棒状部(52)；和作为对棒状部(52)的径向的移动量进行调整的移动量调整部件的螺钉部(53)。

主权项

一种等离子体处理装置，其特征在于，具备：处理容器，其上部侧开口，且在其内部对被处理基板进行等离子体处理；气体供给部，其向所述处理容器内供给等离子体处理用的气体；保持台，其配置于所述处理容器内，且在所述保持台的上方保持所述被处理基板；微波发生器，其产生等离子体激励用的微波；电介质板，其以覆盖所述处理容器的开口的方式配置，密封所述处理容器，并且使微波透过到所述处理容器内；缝隙天线板，其设置有多个缝隙孔，且配置于所述电介质板的上方侧，向所述电介质板发射微波；滞波板，其配置于所述缝隙天线板的上方侧，在径向传播微波；和微波供给单元，向所述缝隙天线板供给由所述微波发生器产生的微波，所述微波供给单元具备：同轴导波管，其包括一个端部与所述缝隙天线板的中心连接的大致圆棒状的内导体，和与所述内导体在径向隔开间隙且设置于所述内导体的外径侧的大致圆筒状的外导体；和变更单元，其使所述内导体的外周面的一部分与在径向与所述内导体的外周面的一部分相对的相对部在径向的距离变更。