[发明专利]曝光装置、曝光方法以及元件制造方法无效
| 申请号： | 201080034018.3 | 申请日： | 2010-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN102472987A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 加藤正纪;奈良圭 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种曝光装置，是对基板进行曝光的曝光装置，包括：平台、检测部、控制部。平台，具有载置有上述基板的载置部且进行移动。检测部，设置于上述平台，且对载置于上述载置部的上述基板中的位于该载置部的规定区域的部分进行检测。控制部，基于上述检测部的检测结果来对上述平台进行驱动控制。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 以及 元件 制造 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，是对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于其包括：平台，具有载置有上述基板的载置部且进行移动；检测部，设置于上述平台，且对载置于上述载置部的上述基板中的位于该载置部的规定区域的部分进行检测；以及控制部，基于上述检测部的检测结果来对上述平台进行驱动控制。
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