[发明专利]曝光装置、曝光方法以及元件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，是对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于其包括：

平台，具有载置有上述基板的载置部且进行移动；

检测部，设置于上述平台，且对载置于上述载置部的上述基板中的位于该载置部的规定区域的部分进行检测；以及

控制部，基于上述检测部的检测结果来对上述平台进行驱动控制。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于其中

上述检测部自上述基板的上述载置部侧对上述基板进行检测。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于其中

上述规定区域包括多个检测区域，

上述载置部设定为矩形，

上述多个检测区域的至少一部分包括上述载置部的相向的两边中的一边。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于其中

上述多个检测区域的至少一部分设定于上述相向的两边之间。

5.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于其包括

第2检测部，该第2检测部设置于与上述平台不同的位置，且对载置于上述载置部的上述基板进行检测，

上述控制部基于上述检测部的检测结果与上述第2检测部的检测结果来对上述平台进行驱动控制。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于其还包括

校正部，该校正部基于上述第2检测部的检测结果来对上述检测部进行校正，

上述第2检测部对载置于上述载置部的上述基板中的至少位于上述规定区域的部分进行检测。

7.根据权利要求1至6中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于其还包括：

光照射部，将光照射至上述规定区域；

光检测部，设置于与上述平台不同的位置，且对照射至上述规定区域的光进行检测；以及

第2校正部，根据上述光检测部的检测结果来对上述检测部进行校正。

8.根据权利要求5至7中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于其还包括

投影光学系统，该投影光学系统将图案像投影至载置于上述载置部的上述基板，

上述第2检测部相对于上述投影光学系统而配置于规定位置。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于其包括

第3检测部，该第3检测部设置于上述平台，且包括基准构件，以上述基准构件为基准来对上述投影光学系统所投影的上述图案像进行检测，

上述控制部基于上述检测部、上述第2检测部以及上述第3检测部的各检测结果来对上述平台进行驱动控制。

10.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于其还包括

第3校正部，该第3校正部基于上述第3检测部的检测结果来对上述第2检测部进行校正。

11.根据权利要求8至10中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于其中

上述检测部对上述图案像进行检测。

12.根据权利要求8至11中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于其还包括

第4校正部，该第4校正部基于上述检测部的检测结果来对上述投影光学系统进行校正。

13.根据权利要求12所述的曝光装置，其特征在于其中

上述图案像为放大影像。

14.一种曝光方法，是对基板进行曝光的曝光方法，其特征在于其包括：

载置步骤，将上述基板载置于平台的载置部；

检测步骤，使用设置于上述平台的检测部，对上述基板中的位于上述载置部的规定区域的部分进行检测；以及

驱动控制步骤，基于上述检测部的检测结果来对上述平台进行驱动控制。

15.根据权利要求14所述的曝光方法，其特征在于其中

上述检测步骤包括自上述基板的上述载置部侧对上述基板进行检测。