[发明专利]曝光装置、曝光方法以及元件制造方法

说明书

技术领域

本发明是有关于一种曝光装置、曝光方法以及元件(device)制造方法。

背景技术

例如于平板显示器(plat panel display)等的电子元件的制造步骤中，使用有如下述专利文献所揭示的以经由掩膜(mask)的曝光光束来对基板进行曝光的曝光装置。该曝光装置包括保持着掩膜且可移动的掩膜平台(mask stage)、以及保持着基板且可移动的基板平台。

在如上所述的曝光装置中，使基板保持于基板平台之后，进行基板的对准(alignment)处理。在对准处理中，对设置于基板的对准标记(alignment mark)进行检测，基于检测结果来驱动基板平台。对准标记的检测部与投影光学系统之间的位置必需固定。例如，如下的技术已为人所知：将检测部固定于投影光学系统，在检测对准标记时使基板平台移动。

[先行技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利早期公开的特开2006-195353号公报

然而，对于上述构成而言，例如当于基板的多处设置有对准标记时，为了对这些对准标记进行检测，每次必需使基板平台移动。若每当进行对准处理时使基板平台移动，则会导致对准处理耗费时间，因此，于使产能(throughput)提高的方面存在问题。

发明内容

本发明的形态的目的在于提供一种可使产能提高的曝光装置、曝光方法以及元件制造方法。

根据本发明的第1形态，提供一种曝光装置，其是对基板进行曝光的曝光装置，包括：平台，具有载置有上述基板的载置部且进行移动；检测部，设置于上述平台，且对载置于上述载置部的上述基板中的位于该载置部的规定区域的部分进行检测；以及控制部，基于上述检测部的检测结果来对上述平台进行驱动控制。

根据本发明的第2形态，提供一种曝光方法，其是对基板进行曝光的曝光方法，包括：载置步骤(step)，将上述基板载置于平台的载置部；检测步骤，使用设置于上述平台的检测部，对上述基板中的位于上述载置部的规定区域的部分进行检测；以及驱动控制步骤，基于上述检测部的检测结果来对上述平台进行驱动控制。

根据本发明的第3形态，提供一种元件制造方法，包括如下的步骤：使用本发明的曝光装置，对涂布有感光剂的上述基板进行曝光，将图案(pattern)转印至该基板；使藉由上述曝光步骤而经曝光的上述感光剂显影，形成与上述图案相对应的曝光图案层；以及经由上述曝光图案层来对上述基板进行加工。

[发明的效果]

根据本发明，可使产能提高。

附图说明

图1是表示本发明第1实施形态的曝光装置的一例的概略构成图。

图2是表示本实施形态的曝光装置的一例的立体图。

图3是表示本实施形态的照明系统的一例的图。

图4是表示本实施形态的投影系统以及基板平台的一例的图。

图5是表示本实施形态的背面对准系统的一例的图。

图6是表示本实施形态的照明区域、检测区域以及掩膜的位置关系的一例的图。

图7是表示本实施形态的投影区域、检测区域、及基板的位置关系的一例的图。

图8是表示本实施形态的曝光方法的一例的流程图。

图9A是表示本实施形态的曝光装置的动作的一例的图。

图9B是表示本实施形态的曝光装置的动作的一例的图。

图10是表示本实施形态的曝光装置的动作图。

图11A是表示本实施形态的曝光装置的动作图。

图11B是表示本实施形态的曝光装置的动作图。

图12本实施形态的曝光装置的动作图。

图13是表示本发明第2实施形态的曝光装置的一例的立体图。

图14是表示本发明的曝光装置的其他构成的图。

图15A是表示本发明的曝光装置的其他构成的图。

图15B是表示本发明的曝光装置的其他构成的图。

图16是表示本发明的曝光装置的其他构成的图。

图17是表示本发明的曝光装置的其他构成的图。

图18是用以对微型元件的制造步骤的一例进行说明的流程图。

具体实施方式