[发明专利]液晶显示装置用阵列基板的制造方法有效
| 申请号： | 201080033378.1 | 申请日： | 2010-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN102472938A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 崔容硕;李石;尹暎晋;李铉奎;李友兰 | 申请（专利权）人： | 东友FINE-CHEM股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 武晨燕;周义刚 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种液晶显示装置用阵列基板的制造方法，其包含使用蚀刻剂组成物蚀刻铜基金属层，其中蚀刻剂组成物，按组成物的总重量计，包括：a)2～30重量％的过氧化氢(H2O2)；b)0.1～5重量％的硝酸(HNO3)；c)0.01～1.0重量％的至少一种含氟化合物；d)0.1～5重量％的至少一种唑化合物；e)0.1～8.0重量％的至少一种咪唑化合物；及f)其余为水。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶 显示装置 阵列 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种液晶显示装置用阵列基板的制造方法，其包含：1)使用蚀刻剂组成物蚀刻沉积在基板上的铜基金属层而形成栅极；2)形成使所述栅极绝缘的栅绝缘层；3)在所述栅绝缘层上形成半导体层；4)形成使所述半导体层绝缘的绝缘层；5)在使所述半导体层绝缘的所述绝缘层上形成铜基金属层；及使用所述蚀刻剂组成物蚀刻所述铜基金属层而形成源极/漏极；及6)形成电连接所述漏极的像素电极，其中，1)及5)的蚀刻剂组成物，按组成物的总重量计，包含a)2～30重量％的过氧化氢(H2O2)，b)0.1～5重量％的硝酸(HNO3)，c)0.01～1.0重量％的至少一种含氟化合物，d)0.1～5重量％的至少一种唑化合物，e)0.1～8.0重量％的至少一种咪唑化合物，及f)其余为水。
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