[发明专利]幅材基板沉积系统无效

专利信息
申请号: 201080015287.5 申请日: 2010-03-16
公开(公告)号: CN102365712A 公开(公告)日: 2012-02-29
发明(设计)人: P·斯费尔拉佐 申请(专利权)人: 维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司
主分类号: H01L21/205 分类号: H01L21/205
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 张涛
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种幅材基板原子层沉积系统,其包括:至少一个辊,所述至少一个辊将幅材基板的表面传输经过多个处理室。所述多个处理室包括第一前体反应室,所述第一前体反应室将幅材基板的表面暴露于第一前体气体的期望的分压力下,由此在幅材基板的表面上形成第一层。吹扫室利用吹扫气体吹扫幅材基板的表面。真空室从幅材基板的表面除去气体。第二前体反应室将幅材基板的表面暴露于第二前体气体的期望的分压力下,由此在幅材基板的表面上形成第二层。
搜索关键词: 幅材基板 沉积 系统
【主权项】:
一种幅材基板原子层沉积系统,所述沉积系统包括:a)至少一个辊,所述至少一个辊沿着第一方向将幅材基板的第一表面传输经过处理室;和b)多个处理室,所述多个处理室定位成使得所述至少一个辊沿着所述第一方向将所述幅材基板的第一表面传输经过所述多个处理室,所述多个处理室包括:第一前体反应室,所述第一前体反应室将所述幅材基板的第一表面暴露于第一前体气体的期望的分压力下,由此在所述幅材基板的第一表面上形成第一层;吹扫室,所述吹扫室利用吹扫气体吹扫所述幅材基板的第一表面;真空室,所述真空室从所述幅材基板的第一表面去除气体;和第二前体反应室,所述第二前体反应室将所述幅材基板的第一表面暴露于第二前体气体的期望的分压力下,由此在所述幅材基板的第一表面上形成第二层。
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