[实用新型]硅片转速检知装置及带硅片转速检知装置的硅片清洗装置无效
| 申请号： | 201020551086.4 | 申请日： | 2010-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN201815947U | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 牛晓翔 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B08B1/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 张骥 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种硅片转速检知装置，包括设置于壳体内的旋转轴、遮挡片、光电传感器、控制器，旋转轴的一端伸出壳体，旋转轴的另一端固定设置有遮挡片；遮挡片的一侧设有光电传感器；光电传感器电连接控制器。本实用新型用于化学机械抛光工艺的后清洗工序，能够在硅片清洗过程中对硅片的旋转状况进行实时监测，当实际转速与工艺设定值误差超过10％及时报警，能够降低硅片表面颗粒残留的可能性，从而提高成品率。本实用新型还公开了一种带硅片转速检知装置的硅片清洗装置。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 转速 装置 清洗 | ||
【主权项】：
一种硅片转速检知装置，其特征在于：包括设置于壳体内的旋转轴、遮挡片、光电传感器、控制器，旋转轴的一端伸出壳体，旋转轴的另一端固定设置有遮挡片；遮挡片的一侧设有光电传感器；光电传感器电连接控制器。
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