[实用新型]半导体光刻显影槽的冲洗喷头无效
申请号: | 201020533301.8 | 申请日: | 2010-09-17 |
公开(公告)号: | CN201815397U | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 单忠飞;陈群琦 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | B05B1/14 | 分类号: | B05B1/14;G03F7/30 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 张骥 |
地址: | 201206 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本实用新型公开了一种半导体光刻显影槽的冲洗喷头,包括两个进水管、容置腔、多个喷嘴,容置腔的顶部分别通过活接头连接两个进水管,容置腔的底部设置多个喷嘴。本实用新型将显影槽的冲洗喷头由双管喷头改为带有多个喷嘴的喷头,能够使冲洗压力分流,减小中心区域水分子与栅氧之间的摩擦力,达到减少中心区域静电电荷积累的目的,最终能够消除电荷。 | ||
搜索关键词: | 半导体 光刻 显影 冲洗 喷头 | ||
【主权项】:
一种半导体光刻显影槽的冲洗喷头,其特征在于:包括两个进水管、容置腔、多个喷嘴,容置腔的顶部分别通过活接头连接两个进水管,容置腔的底部设置多个喷嘴。
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