[实用新型]一种铜箔后处理系统中硅溶液回收装置无效

专利信息
申请号: 201020171674.5 申请日: 2010-04-27
公开(公告)号: CN201762473U 公开(公告)日: 2011-03-16
发明(设计)人: 何成群;薛宏伟;周晓波;赵原森;柴云;白忠波;龚密层;周永森;高青松 申请(专利权)人: 灵宝华鑫铜箔有限责任公司
主分类号: C25D21/16 分类号: C25D21/16
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 刘建芳;马柯柯
地址: 472500 *** 国省代码: 河南;41
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摘要: 一种铜箔后处理系统中硅溶液回收装置,包括挤水辊和硅溶液回收单元,挤水辊用于设置在T7处理阶段的T7水洗槽与T8处理阶段T8处理槽之间的上导辊上方并偏于T7水洗槽侧的位置,挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间上导辊的轴线平行,挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间上导辊相对外壁之间的距离设置为铜箔的厚度;硅溶液回收单元用于回收硅溶液。采用挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间的上导辊相配合,将铜箔从T7水洗槽带出的水分挤出并流入T7水洗槽内,防止进入T8处理步骤的铜箔带有过多的水分影响喷硅,此外,利用硅溶液回收单元可将铜箔经过T8处理槽内下导辊、烘箱前下导辊时流下的硅溶液直接回收到T8储液罐中。
搜索关键词: 一种 铜箔 处理 系统 溶液 回收 装置
【主权项】:
一种铜箔后处理系统中硅溶液回收装置,其特征在于:包括挤水辊和硅溶液回收单元,挤水辊用于设置在T7处理阶段的T7水洗槽与T8处理阶段T8处理槽之间的上导辊上方并偏于T7水洗槽侧的位置,挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间上导辊的轴线平行,挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间上导辊相对外壁之间的距离设置为铜箔的厚度;硅溶液回收单元用于设置于T8处理阶段T8处理槽内以及T8处理槽与烘箱之间。
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  • 本实用新型属于钢管加工领域,具体涉及一种用于钢管镀锌生产的捞渣机装置。包括吊架、设置于吊架底部的挖斗以及位于吊架顶部的提拉部件,吊架包括连接挖斗一端的主吊架和设置于主吊架上连接挖斗另一端并可使挖斗在该端随自身重力倾斜下沉的副吊架。挖斗为对称设置的一副,主吊架包括主横杆和设置于主横杆两端的主竖杆,挖斗外端铰接于主竖杆的底端;主横杆中部设置有主导向孔,副吊架包括副横杆和垂直连接于副横杆中部的下沉导向杆,下沉导向杆向下穿过主导向孔并与挖斗内端铰接。通过主吊架与副吊架的配合,实现挖斗利用自身重力下沉并展开的动作,只需要在完成挖渣后用外动力将挖斗提起即可,节约了能耗,省去了挖斗下沉和展开的电动设备,节约了成本。
  • 一种电镀镍废液的处理方法-201310465545.5
  • 黄海胜 - 昆山纯柏精密五金有限公司
  • 2013-10-08 - 2014-01-01 - C25D21/16
  • 本发明公开了一种电镀镍废液的处理方法,包括步骤:(a)向废液中加入60~70mL/L的过氧化氢,加热至60~80℃并不断搅拌;(b)用氨水调节废液的pH值为11~12,向废液中加入70~100g/L的氢氧化钠,并加入10~15g/L的PVP;加热至30~50℃并不断搅拌,然后在常温下静置;最后过滤析出氢氧化镍沉淀物;(c)采用浓度为10~20%的稀硫酸溶解氢氧化镍沉淀物,形成硫酸镍重新利用;(d)向过滤后的废液中加入80~120g/L的石灰乳,加热至80~100℃并不断搅拌。本发明能够能够回收废液中的镍离子重新利用,使得废液符合排放的标准,既节省了成本又达到环保的要求。
  • 一种贵金属回收装置-201320247085.4
  • 李智专;许开华 - 荆门市格林美新材料有限公司;深圳市格林美高新技术股份有限公司
  • 2013-05-06 - 2013-12-04 - C25D21/16
  • 本实用新型公开一种贵金属回收装置,该回收装置包括机体、过滤装置、回收装置和控制装置,过滤装置、回收装置和控制装置固定安装在机体上,过滤装置输出过滤后的废液给回收装置,控制装置控制过滤装置和回收装置工作。通过本实用新型不仅可提取回收其中的贵金属,同时也可以将工业废液处理达标,减少对环境的污染破坏。本实用新型机身体积小巧、安装简单,而且根据生产线上的数据,可以计算回收的金属重量,其具有高回收能力,投资回报快。
  • 电镀锡液除铅装置-201220361976.8
  • 陆伟星;王鑫艳;陆永亮;尚元艳 - 上海梅山钢铁股份有限公司
  • 2012-07-25 - 2013-03-13 - C25D21/16
  • 本实用新型涉及一种电镀锡液除铅装置。目前的镀锡产品容易出现产品铅超标。本装置的组成包括:箱体(2),所述的箱体内设置有极板阵列,所述的极板阵列通过电极接线(20)连接电源和控制器(1),所述的箱体上具有进液口(17)和排液口(18),所述的极板阵列包括阴极极板(4)和阳极极板(5),所述的阴极极板和所述的阳极极板间隔布置,相邻的所述的阳极极板之间设置极板绝缘介质(6),所述的排液口处通过三通连接电镀液循环系统和取液阀(13),所述的电镀液循环系统连接所述的进液口。本实用新型用于通过低电流密度电镀,选择性将镀液中铅富集到阴极极板上,从而达到镀液净化。
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