[实用新型]一种高压端口结构及半导体器件有效

专利信息
申请号: 201020119385.0 申请日: 2010-02-11
公开(公告)号: CN201708154U 公开(公告)日: 2011-01-12
发明(设计)人: 胡镭;裴国旭;李晓辉;李律;王芳芳;邱嘉敏;徐建强 申请(专利权)人: 深圳市国微电子股份有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L29/423
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 贾振勇
地址: 518000 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型适用于半导体技术领域,提供了一种高压端口结构及包含该高压端口结构的半导体器件,所述高压端口中,在一衬底上形成有P阱和N阱,所述P阱内部的外围有一P+注入区,所述P+注入区内有两个串联的NMOS管,至少其中一个NMOS管为环形栅结构。本实用新型中,通过在高压端口结构中部分或全部采用环形栅结构,在源/漏之间完全消除了场氧到栅氧的过渡区,从而解决寄生晶体管漏电效应,使器件抗总剂量能力增强。
搜索关键词: 一种 高压 端口 结构 半导体器件
【主权项】:
一种高压端口结构,其特征在于,在一衬底上形成有P阱和N阱,所述P阱内部的外围有一P+注入区,所述P+注入区内有两个串联的NMOS管,至少其中一个NMOS管为环形栅结构。
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