[实用新型]磁控溅射装置组合单元有效
| 申请号： | 201020056712.2 | 申请日： | 2010-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN201704400U | 公开（公告）日： | 2011-01-12 |
| 发明（设计）人： | 王金林;陆卫;季亚林;徐军 | 申请（专利权）人： | 广东中航特种玻璃技术有限公司;中国科学院上海技术物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所 44248 | 代理人： | 胡吉科 |
| 地址： | 516083 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种磁控溅射装置组合单元，包括阴极，分子泵以及导流罩，所述的分子泵设置在导流罩内，所述的分子泵与阴极并列设置。本实用新型的磁控溅射装置组合单元通过将阴极和分子泵设置在一个单元里，节约了镀膜设备中的单元数量，而又达到了同样的工艺效果，这样对所有因设备单元数量有限而使多层镀膜受限制提供了一个很好的解决方案，在不增加设备购买以及满足产品性能要求的情况下，可以继续放置更多的阴极进行多层镀膜，从而大大的节约了生产成本，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 装置 组合 单元 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射装置组合单元，其特征在于：包括阴极，分子泵以及导流罩，所述的分子泵设置在导流罩内，所述的分子泵与阴极并列设置。
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