[发明专利]高效抗辐射中红外激光晶体Re,Er:GSGG及其制备方法无效
申请号: | 201010607623.7 | 申请日: | 2010-12-27 |
公开(公告)号: | CN102127812A | 公开(公告)日: | 2011-07-20 |
发明(设计)人: | 孙敦陆;殷绍唐;张庆礼;罗建乔;刘文鹏;谷长江;秦清海;李为民;韩松 | 申请(专利权)人: | 中国科学院安徽光学精密机械研究所 |
主分类号: | C30B29/28 | 分类号: | C30B29/28;C30B15/00;H01S3/16 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230031 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明属于一种高效的抗辐射中红外激光晶体,在Er3+:Gd3Sc2Ga3O12(Er:GSGG,其中Er3+的掺杂浓度高于30at%)晶体中掺入Ho3+或Pr3+,表达式可写为Re3+,Er3+:Gd3Sc2Ga3O12(Re=Ho,Pr),其下能级的荧光寿命可得到一定的减小,从而有效提高了晶体的激光效率,同时该晶体还具有抗辐射的性能。 | ||
搜索关键词: | 高效 辐射 红外 激光 晶体 re er gsgg 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种高效抗辐射中红外激光晶体Re3+,Er3+:Gd3Sc2Ga3O12,其特征在于晶体的化学式为Re3+,Er3+:Gd3Sc2Ga3O12,分子式Re3xEr3yGd3(1‑x‑y)Sc2Ga5O12,其中Re3+为Ho3+或Pr3+,0<x,y<1。
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