[发明专利]一种以锡为牺牲层的微机械结构器件制备方法有效
申请号: | 201010565106.8 | 申请日: | 2010-11-26 |
公开(公告)号: | CN102060260A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
发明(设计)人: | 翟厚明;马斌;程正喜;张学敏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 20008*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种以锡为牺牲层的微机械结构器件制备方法。该方法以锡为牺牲层,采用加热基底熔化锡的方法实现牺牲层表面平坦化;采用湿法腐蚀方法腐蚀锡牺牲层,使牺牲层成形;在牺牲层表面制作各种微机械结构图形后,将基底置于干冰液体中,使牺牲层粉末化并脱离基底,实现微机械结构悬空。由于牺牲层去除采用物理方法,不会对悬空微机械结构材料产生化学腐蚀作用,因此可提高器件合格率,有利于大规模生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 牺牲 微机 结构 器件 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种以锡为牺牲层的微机械结构器件制备方法,其特征在于包括以下步骤:1)在基底上采用真空热蒸发或磁控溅射的方法沉积锡牺牲层,其中,锡的纯度优于99.9%,真空热蒸发系统或磁控溅射系统的本底真空优于1×10‑3Pa,溅射系统的工艺气体为Ar气;2)将基底置于真空腔体中抽真空,系统真空度优于1×10‑3Pa后,基底逐渐加热升温,当温度达到235‑240℃后维持3min,然后在真空中降低基底温度直至室温,实现锡牺牲层表面平坦化;3)负性光刻胶对锡牺牲层光刻后,用配比为HF∶H2O=1∶1的溶液腐蚀锡牺牲层,使其成形,再用等离子体去胶机在O2中去除负性光刻胶;4)在制备温度低于230℃,确保牺牲层不熔化情况下,采用微机械加工制造方法,在牺牲层表面制备各种微机械结构;5)将制备好微机械结构的基底置于干冰液体中,并搅动干冰液体。牺牲层粉末化后,置换干冰液体3‑5次,使黏附在微机械结构上的牺牲层粉末全部脱离。
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