[发明专利]基于氢化微晶硅薄膜的晶体硅异质结太阳电池的制备方法无效
申请号: | 201010510107.2 | 申请日: | 2010-10-15 |
公开(公告)号: | CN101976710A | 公开(公告)日: | 2011-02-16 |
发明(设计)人: | 孟凡英;汪建强;张松;程雪梅;韩涛;司新文;李翔;黄建华 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/072;H01L31/0368 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 31201 | 代理人: | 王锡麟;王桂忠 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种太阳能应用技术领域的基于氢化微晶硅薄膜的晶体硅异质结太阳电池的制备方法,结合了晶体硅与氢化硅基薄膜低温工艺和物性可调控的特点,可实现P型硅片表面的有效钝化和PN结制成,在硅片背表面采用原子层沉积(和等离子体增强的化学气相沉积)制备Al2O3或Al2O3/SiOx钝化膜,由于Al2O3薄膜中负电荷的密度高达1011cm-2,该钝化膜能降低光生少数载流子在背表面复合的几率,提高电池的长波光量子效率,为光生载流子的输运和收集创造条件,从而提高电池的光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 基于 氢化 微晶硅 薄膜 晶体 硅异质结 太阳电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于氢化微晶硅薄膜的晶体硅异质结太阳电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:第一步、采用碱溶液和酸溶液分别对P型单晶硅和多晶硅片进行表面预清洗织构处理,得到位于单晶硅表面的金字塔结构以及位于多晶硅表面的腐蚀坑;第二步、用热丝化学气相沉积系统在硅片表面制备氢化微晶硅薄膜并形成PN结,具体是指:采用热丝化学气相沉积设备,以硅烷、磷烷和氢气为反应气体,在制绒后的p型单晶硅片上依次沉积得到本征微晶硅薄膜和掺杂微晶硅薄膜,用以形成PN结;第三步、采用原子层沉积和等离子体增强的化学气相沉积技术制备背表面的Al2O3薄膜或Al2O3/SiOx双层钝化膜,形成电池的背表面场,降低少数载流子的复合,提高电池开路电压;第四步、采用溅射方法在氢化微晶硅薄膜表面沉积透明导电氧化物薄膜,作为表面电极;第五步、采用丝网印刷背面电极、丝网印刷正面电极,经过合金化过程后,形成太阳电池。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海交通大学,未经上海交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010510107.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的