[发明专利]薄膜晶体管及其制造方法有效
申请号: | 201010504260.4 | 申请日: | 2010-10-11 |
公开(公告)号: | CN102044568A | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 姜镇熙;柳春基;朴鲜;朴钟贤;李律圭 | 申请(专利权)人: | 三星移动显示器株式会社 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L29/06;H01L21/336;H01L29/04 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 郭鸿禧;李娜娜 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了一种薄膜晶体管(TFT)及其制造方法。该TFT包括:基底;栅电极,设置在基底上;栅极绝缘层,设置在栅电极上;半导体层,设置在栅极绝缘层上并包括多晶硅(poly-Si)层;欧姆接触层,设置在半导体层的预定区域上;绝缘的中间层,设置在基底的包括欧姆接触层的基本整个表面上;源电极和漏电极,通过形成在绝缘的中间层中的接触孔电连接到欧姆接触层。阻隔层设置在半导体层与欧姆接触层之间。因此,当控制底栅式TFT的截止电流时,可以通过简单的工艺来防止因泄漏电流导致的特性的劣化。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括:基底;栅电极,设置在基底上;栅极绝缘层,设置在栅电极上;半导体层,设置在栅极绝缘层上,半导体层包括多晶硅层;欧姆接触层,设置在半导体层的预定区域上;绝缘的中间层,设置在基底的包括欧姆接触层的基本整个表面上;源电极和漏电极,通过形成在中间层中的接触孔电连接到欧姆接触层,其中,阻隔层设置在半导体层与欧姆接触层之间。
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