[发明专利]等离子处理装置

摘要

本发明提供一种等离子处理装置。该等离子处理装置与以往相比能够谋求提高处理的面内均匀性、并且能够削减处理室内的浪费空间来谋求装置小型化。等离子处理装置包括簇射头，自设于该簇射头的与载置台相对的相对面上的多个气体喷出孔朝向基板以喷淋状供给气体，该等离子处理装置还包括：多个排气孔，其形成于相对面，用于进行排气；环状构件，其沿着载置台的周缘部设置且能够上下运动，在其处于上升位置时形成由载置台、簇射头和该环状构件围成的处理空间；多个环状构件侧气体喷出孔，其开口于环状构件的内壁部分，用于向处理空间内供给气体；多个环状构件侧排气孔，其开口于环状构件的内壁部分，用于对处理空间进行排气。

主权项

一种等离子处理装置，该等离子处理装置包括簇射头，该簇射头与用于载置基板的载置台相对地设置于处理室中，在该处理室的内部对上述基板进行处理，自设于该簇射头的与上述载置台相对的相对面上的多个气体喷出孔朝向上述基板以喷淋状供给气体，其特征在于，该等离子处理装置还包括：多个排气孔，其形成于上述相对面，用于进行排气；环状构件，其沿着上述载置台的周缘部设置且能够上下移动，在其处于上升位置时形成由上述载置台、上述簇射头和该环状构件围成的处理空间；多个环状构件侧气体喷出孔，其开口于上述环状构件的内壁部分，用于向上述处理空间内供给气体；以及多个环状构件侧排气孔，其开口于上述环状构件的内壁部分，用于对上述处理空间进行排气。