[发明专利]溅射系统有效
申请号: | 201010260204.0 | 申请日: | 2010-08-20 |
公开(公告)号: | CN102121095A | 公开(公告)日: | 2011-07-13 |
发明(设计)人: | 崔丞镐;郑石源;崔永默;宋贤根 | 申请(专利权)人: | 三星移动显示器株式会社 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩明星;李娜娜 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 公开了一种溅射系统,其包括第一和第二溅射单元、第一和第二气体供应管、第一和第二基底支撑单元。第一溅射单元包括:彼此面对的第一和第二沉积材料板;磁场产生器,位于第一和第二沉积材料板的后面。第二溅射单元包括:第三沉积材料板,靠近第一沉积材料板;第四沉积材料板,靠近第二沉积材料板,面对第三沉积材料板;磁场产生器,位于第三和第四沉积材料板的后面。第一气体供应管位于第一和第三沉积材料板之间,将气体排放到第二和第四沉积材料板。第二气体供应管位于第二和第四沉积材料板之间,将气体排放到第一和第三沉积材料板。第一基底支撑单元朝向第一和第二沉积材料板的外边缘。第二基底支撑单元朝向第三和第四沉积材料板的外边缘。 | ||
搜索关键词: | 溅射 系统 | ||
【主权项】:
一种溅射系统,包括:第一溅射单元,包括:第一沉积材料板;第二沉积材料板,其中,第一沉积材料板和第二沉积材料板彼此面对;磁场产生器,布置在第一沉积材料板和第二沉积材料板中的每个的后面,用于产生磁场;第二溅射单元,包括:第三沉积材料板,被布置为靠近第一沉积材料板;第四沉积材料板,被布置为靠近第二沉积材料板,其中,第三沉积材料板和第四沉积材料板彼此面对;磁场产生器,布置在第三沉积材料板和第四沉积材料板中的每个的后面,用于产生磁场;第一气体供应管,布置在第一沉积材料板和第三沉积材料板之间,用于将气体排放到第二沉积材料板和第四沉积材料板;第二气体供应管,布置在第二沉积材料板和第四沉积材料板之间,用于将气体排放到第一沉积材料板和第三沉积材料板;第一基底支撑单元,朝向第一沉积材料板和第二沉积材料板的外边缘,用于支撑第一沉积基底;第二基底支撑单元,朝向第三沉积材料板和第四沉积材料板的外边缘,用于支撑第二沉积基底。
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