[发明专利]一种玻璃衬底绒面结构ZnO薄膜及应用有效

专利信息
申请号: 201010202111.2 申请日: 2010-06-18
公开(公告)号: CN101882632A 公开(公告)日: 2010-11-10
发明(设计)人: 陈新亮;赵颖;李林娜;倪牮;张晓丹;张建军;耿新华 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/18;H01L31/04
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人: 侯力
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种玻璃衬底绒面结构ZnO薄膜,利用磁控溅射技术制备,以玻璃为衬底,以Zn-Al合金靶和O2为原材料,以Al为掺杂剂,在真空条件下进行磁控溅射,在玻璃衬底上直接生长绒面结构ZnO薄膜,薄膜厚度(900~1500)nm,薄膜结构为glass/绒面ZnO薄膜,应用于pin型a-Si薄膜太阳电池或a-Si/uc-Si叠层薄膜太阳电池。本发明的优点是:利用磁控溅射技术,镀膜温度相对低,生长速率快,有利于大面积生长;无需后续湿法刻蚀技术制绒,可直接生长获得粗糙表面的绒面结构ZnO-TCO薄膜,有利于增加光散射作用;应用于pin型a-Si薄膜太阳电池,光电转换效率高。
搜索关键词: 一种 玻璃 衬底 结构 zno 薄膜 应用
【主权项】:
一种玻璃衬底绒面结构ZnO薄膜,其特征在于:利用磁控溅射技术制备,以玻璃为衬底,衬底温度为(200~280)℃,以Zn-Al合金靶和O2为原材料,其中Zn组分纯度为99.99%,掺杂剂Al组分的重量百分比含量为(0.5~3.0)%,背景真空度为8×10-5Pa,溅射气压为(2.5~7.5)mTorr,其中氧气流量为2~30sccm,在玻璃衬底上直接生长绒面结构ZnO薄膜,薄膜厚度(900~1500)nm,薄膜结构为glass/绒面ZnO薄膜。
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