[发明专利]一种极化调谐铁电薄膜二极管存储器有效

专利信息
申请号: 201010175142.3 申请日: 2010-05-13
公开(公告)号: CN101859779A 公开(公告)日: 2010-10-13
发明(设计)人: 江安全;刘骁兵 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247;G11C11/22
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 20043*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于信息存储技术领域,具体涉及一种极化调谐铁电薄膜二极管存储器。所述存储器结构:依次为衬底、电子束蒸发或磁控溅射制备的薄膜底电极、脉冲激光淀积或磁控溅射制备的铁酸铋薄膜,以及顶部电极。本发明使用一种新型铁电半导体材料铁酸铋薄膜,具有高达5.4A/cm2的极性调制二极管电流密度,非常适合于高密度信息的存储应用,存储的信息同时兼具非易失性、抗疲劳性、抗辐射性和阻变存储的非破坏性读取功能,提高了非易失性存储单元的编程/擦除速度(皮秒量级),具有广阔发展空间和市场潜力。
搜索关键词: 一种 极化 调谐 薄膜 二极管 存储器
【主权项】:
一种极化调谐铁电薄膜二极管存储器,其特征在于,依次为衬底(1)、电子束蒸发或磁控溅射制备的薄膜底电极(2)、脉冲激光淀积或磁控溅射制备的铁酸铋薄膜(3),以及顶部电极(4)。
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