[发明专利]用于CVD反应器的进气装置

摘要

本发明揭示了一种用于CVD反应器的进气装置，包括呈径向闭合的气体分配管及一体贯通的一路以上进气管，且该气体分配管朝向其所围裹的空间平面中心设有复数个气体喷射孔，且各喷射孔的开设角度相对于其向心角度朝基片偏移。通过调整气体喷射孔的分布密度、气体喷射孔的孔径大小及气体分配管的管径分布，使到达基片上的气体流速相同，并在样品表面形成均一的边界层，从而保证了薄膜生长的均匀性和一致性。

主权项

用于CVD反应器的进气装置，其特征在于：所述进气装置包括呈径向闭合的气体分配管及一体贯通的一路进气管，且所述气体分配管朝向其所围裹的空间平面中心设有复数个气体喷射孔，其中所述气体分配管的径向截面面积处处相等，所述开口均等的气体喷射孔在近进气管侧的周向分布密度小于远进气管侧的周向分布密度，且所述各喷射孔的开设角度相对于其向心角度朝基片偏移。