[发明专利]四结GaInP/GaAs/InGaAs/Ge太阳电池的制作方法无效

专利信息
申请号: 201010165596.2 申请日: 2010-05-07
公开(公告)号: CN101859813A 公开(公告)日: 2010-10-13
发明(设计)人: 陆书龙;董建荣;杨辉;黄伍桥 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 陈忠辉
地址: 215125 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明揭示了一种四结GaInP/GaAs/InGaAs/Ge太阳电池的制作方法,利用晶片键合的方法,将基于倒置结构生长的GaInP/GaAs/InGaAs三结太阳和Ge太阳电池单片集成,充分利用Ge电池,既直接作为四结电池的底电池,又作为支撑衬底,实现四结带隙能量分别为1.9/1.4/1.0/0.67eV的太阳电池,更大限度地实现太阳光全光谱的吸收和能量转换,从而可以获得超过45%的转换效率。本发明减少了机械式级联太阳电池系统中使用多个不同衬底所导致的高成本以及光学集成电池中复杂的光学系统及光学损失,同时还有效解决了生长单片四结级联半导体太阳电池材料的晶格失配问题。实现高电压、低电流输出,降低高倍聚光电池中电阻消耗。
搜索关键词: gainp gaas ingaas ge 太阳电池 制作方法
【主权项】:
四结GaInP/GaAs/InGaAs/Ge太阳电池的制作方法,其特征在于:以倒置结构生长三结GaInP/GaAs/InGaAs太阳电池,并与单结Ge太阳电池以键合方式集成为四结GaInP/GaAs/InGaAs/Ge太阳电池。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,未经中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010165596.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top