[发明专利]涂敷装置以及涂敷方法有效
| 申请号： | 201010156453.5 | 申请日： | 2005-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN101811111A | 公开（公告）日： | 2010-08-25 |
| 发明（设计）人： | 柴田一朗 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C11/02;B05D1/26 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种涂敷装置，由供给涂敷液的涂敷液供给机构(15)和涂敷机构(18)构成，所述涂敷机构(18)一边利用所述涂敷液供给机构(15)提供涂敷液，一边在被连续搬送到与所述涂敷液供给机构(15)隔开规定间隔的位置的带状支撑体(16)上形成规定膜厚的涂敷膜，所述涂敷机构被固定在有源除振装置(32)上。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种带有涂敷膜的带状支撑体的制造方法，其中，包括：连续地输送带状支撑体的工序；利用涂敷液供给机构提供涂敷液，同时利用涂敷机构在所述带状支撑体上形成涂敷膜的工序，所述涂敷机构被固定在有源除振装置上，在有源除振装置的底座上通过空气促动器支撑有负载承受部，在该负载承受部上固定有能够检测出加速度的加速度传感器，而且，在底座与负载承受部之间设置有能够测定负载承受部的变位的变位传感器，并且，在底座上还固定有能够检测出加速度的加速度传感器，所述涂敷机构的一次固有频率为80Hz以上。
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