[发明专利]降低热载流子效应的N型横向绝缘栅双极型器件有效
申请号: | 201010146509.9 | 申请日: | 2010-04-13 |
公开(公告)号: | CN101834202A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
发明(设计)人: | 钱钦松;孙虎;孙伟锋;庄华龙;陆生礼;时龙兴 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06;H01L29/36 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 黄雪兰 |
地址: | 214135 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种降低热载流子效应的N型横向绝缘栅双极型器件,包括:P型衬底,在P型衬底上设有埋氧,在埋氧上设有P型外延层,在P型外延层上设有N型阱和P阱区,在N型阱上设有N型缓冲阱,在N型缓冲阱上设有P型阳区,在P阱区上设有N型阴区和P型体接触区,而场氧化层,金属层,栅氧化层,多晶硅栅以及氧化层设置在所述器件的上表面,其特征在于在P阱区的下部、埋氧之上设有P型埋层,且插入P型外延层一部分,与P阱区整体构成反向的“L”型P区,这种结构可以将器件的空穴电流引向底部,降低了器件沟道区的离子产生率和纵向电场,同时降低了热电子的温度,从而有效抑制了器件的热载流子效应。 | ||
搜索关键词: | 降低 载流子 效应 横向 绝缘 栅双极型 器件 | ||
【主权项】:
一种降低热载流子效应的N型横向绝缘栅双极型器件,包括:P型衬底(1),在P型衬底(1)上设有埋氧(2),在埋氧(2)上设有P型外延层(3),P型外延层(3)左边设有N型阱(4),右边设有P阱区(13),N型阱(4)和P阱区(13)之间仍有P型外延层(3)隔离。在N型阱(4)上设有N型缓冲阱(5),在N型缓冲阱(5)上设有P型阳区(6),在P阱区(13)上设有N型阴区(12)和P型体接触区(11),在P型外延层(3)的表面设有栅氧化层(10)且栅氧化层(10)自N型阴区(12)开始延伸至N型阱(4)。在P型阳区(6)、P型体接触区(11)、N型阴区(12)和栅氧化层(10)以外的硅表面区域设有场氧化层(8),在栅氧化层(10)的上表面设有多晶硅栅(9)且多晶硅栅(9)延伸至其左边N型阱(4)上的场氧化层(8)的表面,在P型阳区(6)、场氧化层(8)、多晶硅栅(9)、P型体接触区(11)、N型阴区(12)的表面设有氧化层(15),在P型阳区(6)、P型体接触区(11)、N型阴区(12)和多晶硅栅(9)上分别连接有金属层(7),其中P型体接触区(11)、N型阴区(12)上连接的为同一金属层(7),其特征在于在P阱区(13)的下部、埋氧(2)之上设有P型埋层(14),插入P型外延层(3)一部分,与P阱区(13)整体构成反向的“L”型P区。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010146509.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:封装基座结构及其制作方法
- 下一篇:电子元件封装体及其形成方法
- 同类专利
- 专利分类