[发明专利]半穿透半反射式像素结构有效
申请号: | 201010134180.4 | 申请日: | 2010-03-12 |
公开(公告)号: | CN101819979A | 公开(公告)日: | 2010-09-01 |
发明(设计)人: | 陈育懋;徐文斌;赵之尧;温金瑞 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;G02F1/1362 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;祁建国 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种半穿透半反射式像素结构,其具有一穿透区以及一反射区。像素结构包括一主动元件、一覆盖层、一反射电极层、一反射电极图案以及一穿透电极层。覆盖层位于穿透区以及反射区,且覆盖主动元件,其中覆盖层具有一接触窗开口,接触窗开口至少位于穿透区。反射电极层位于反射区内。反射电极图案位于接触窗开口内并延伸至接触窗开口周围的覆盖层的一上表面上。穿透电极层位于穿透区的覆盖层的表面上,其中穿透电极层与反射电极层电性连接且穿透电极层经接触窗开口与主动元件电性连接。 | ||
搜索关键词: | 穿透 反射 像素 结构 | ||
【主权项】:
一种像素结构,其特征在于,其具有一第一区以及一第二区,该像素结构包括:一主动元件;一覆盖层,位于该第一区以及该第二区,且覆盖该主动元件,其中该覆盖层具有一接触窗开口,该接触窗开口至少位于该第二区;一第一电极层,位于该第一区内;一第一电极图案,位于该接触窗开口内并延伸至该接触窗开口周围的该覆盖层的一上表面上;以及一第二电极层,位于该第二区的该覆盖层的表面上,其中该第二电极层与该第一电极层电性连接且该第二电极层经该接触窗开口与该主动元件电性连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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