[发明专利]彩膜基板及其制造方法无效
| 申请号： | 201010117073.0 | 申请日： | 2010-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN102193236A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 玄明花;高永益;金成浩 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种彩膜基板及其制造方法，该彩膜基板包括显示区域、与显示区域相邻的非显示区域以及与非显示区域相邻的切割区域，其中，至少在切割区域，在彩膜基板的透明导电膜上形成有树脂层，或者在彩膜基板的透明基板上形成有树脂层。本发明通过在切割区域形成树脂层，防止了断裂的彩膜基板尖端部划伤或划破阵列基板的周边线路区域的钝化层的现象，从而解决了钝化层下部的金属连接线被腐蚀等问题，而且不增加彩膜基板的制造工序。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板，包括显示区域、与所述显示区域相邻的非显示区域以及与所述非显示区域相邻的切割区域，其特征在于：至少在所述切割区域，在所述彩膜基板的透明导电膜上形成有树脂层，或者在所述彩膜基板的透明基板上形成有树脂层。
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