[发明专利]曝光装置及其使用的光掩模有效
| 申请号： | 200980162367.0 | 申请日： | 2009-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN102597881A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 水村通伸 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 刘文海 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明中，光掩模(3)具备：沿着与被曝光体的搬运方向(A)大致正交的方向以规定间距排列形成多个掩模图案(13)的多个掩模图案列(15)；与多个掩模图案列(15)的各掩模图案(13)分别对应而形成在被曝光体侧，并将各掩模图案(13)缩小投影到被曝光体上的多个微型透镜(14)，其中，以在位于被曝光体的搬运方向(A)的排头侧的掩模图案列(15a)所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列(15b～15d)所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将上述后续的掩模图案列(15b～15d)及与之对应的各微型透镜(14)沿着多个掩模图案(13)的上述排列方向分别错开规定尺寸。由此，在被曝光体的整面上高分辨率且高密度地形成微细的曝光图案。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 及其 使用 光掩模 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，将被曝光体向一方向搬运并经由光掩模向所述被曝光体间歇性地照射曝光光，对应于形成在所述光掩模上的多个掩模图案而在所述被曝光体上形成曝光图案，所述曝光装置的特征在于，所述光掩模包括：沿着与所述被曝光体的搬运方向大致正交的方向将所述多个掩模图案以规定间距排列形成的多个掩模图案列；分别对应于所述多个掩模图案列的各掩模图案而形成在所述被曝光体侧，并将所述各掩模图案缩小投影到所述被曝光体上的多个微型透镜，以在位于所述被曝光体的搬运方向排头侧的所述掩模图案列所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将所述后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着所述多个掩模图案的所述排列方向分别错开规定尺寸。
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